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Grünes Siliziumkarbidpulver zum Polieren optischer Fasern

Grünes Siliziumkarbidpulver (SiC) ist ein hochreines, synthetisches Schleifmittel, das häufig in Präzisionspolieranwendungen, einschließlich  der Glasfaserpolitur , eingesetzt wird . Seine außergewöhnliche Härte (9,5 auf der Mohs-Skala), die scharfe Partikelmorphologie und die chemische Stabilität ermöglichen die Herstellung ultraglatter Oberflächen mit minimalen Untergrundschäden.

Wichtige Eigenschaften für das Polieren optischer Fasern:

  1. Hohe Reinheit (≥99 %)  – Minimiert das Kontaminationsrisiko beim Polieren.

  2. Kontrollierte Partikelgröße (z. B. 0,5–10 µm)  – Feine Körnungen gewährleisten glatte Oberflächen ohne Kratzer.

  3. Gleichmäßige Partikelform  – Scharfe, eckige Körner verbessern die Materialabtragsrate bei gleichbleibender Präzision.

  4. Chemische Inertheit  – Widersteht Reaktionen mit Polierschlämmen oder Fasermaterialien.

Anwendungen in der Glasfaserherstellung:

  • Vorpolierphasen : Entfernt größere Unvollkommenheiten vor dem endgültigen Polieren.

  • Aufschlämmungsformulierungen : Mit Wasser oder Ölen gemischt für eine gleichmäßige Polierleistung.

  • Kern-/Mantelbearbeitung : Hilft, eine geringe Oberflächenrauheit (<1 nm) für minimalen Signalverlust zu erreichen.

Vorteile gegenüber anderen Schleifmitteln:

  • Härter als Aluminiumoxid (Al₂O₃) , aber weniger aggressiv als Diamant, wodurch das Risiko einer Überpolitur verringert wird.

  • Wärmeleitfähiger als Siliciumdioxid , unterstützt die Wärmeableitung beim Polieren.

  • Geringere Kosten als Diamantschleifmittel  , aber dennoch hohe Präzision.

Empfohlene Qualitäten zum Polieren von Fasern:

  • F800–F1200 (1–10 µm) : Für Zwischenpolituren.

  • F2000–F4000 (Submikron) : Für ultrafeine Endbearbeitung.

Überlegungen:

  • Schlammkonzentration : Typischerweise 5–20 % SiC in Trägern auf Wasser- oder Glykolbasis.

  • Polierdruck und -geschwindigkeit : Optimiert, um Faserbrüchigkeit oder Mikrorisse zu verhindern.

Für die entscheidende Endpolitur  können auf die SiC-Schritte kolloidale Kieselsäure oder Ceroxid  folgen, um eine Glätte auf atomarer Ebene zu erreichen.

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