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Grünes Siliciumcarbidpulver zum Polieren von Glas

Hohe Härte (Mohs 9,2–9,5), härter als Glas, ermöglicht effizientes Abtragen von Material.
Ausgezeichnete Selbstschärfung – Mikrorisse beim Polieren sorgen für scharfe Schneidkanten.
Hohe chemische Reinheit (typischerweise ≥98% SiC) → keine Verfärbungen oder Verunreinigungen auf Glasoberflächen.
Gute Wärmeleitfähigkeit → reduziert die Wärmeentwicklung, minimiert thermische Spannungen und Kantenabsplitterungen.
Enge Partikelgrößenverteilung → gleichmäßiges Finish, vermeidet tiefe Kratzer.

Partikelgröße	Typische Anwendung beim Glaspolieren	Oberflächenbeschaffenheit
Grob: F240–F600	Vorpolieren, Kantenschleifen, Entfernen tiefer Kratzer	Halbfein
Mittel: F800–F1500	Feinschleifen, Vorpolieren von optischem/elektronischem Glas	Glatt, seidenmatt
Fein: W20–W5	Hochglanzpolitur für Flachglas und Spiegel	Heller Halbspiegel
Superfein: W3–W0,5	Optisches Glas, Präzisionslinsen, Deckglas	Hochglanzpoliert, niedriger Ra-Wert

Schärfer und haltbarer als Aluminiumoxid für Glas.
Feinere, gleichmäßigere Oberfläche als schwarzes Siliziumkarbid .
Kostengünstiger als viele Diamantsuspensionen für allgemeine Glaspolierarbeiten.

Kostenloses Schleifmittelpolieren
Mit Wasser oder Polierflüssigkeit zu einer Paste vermischt, die auf Polierpads oder Polierscheiben verwendet wird.
Verbundene Werkzeuge
Mit Harz gebundene Scheiben, Steine oder Pads zum Kantenpolieren und Oberflächenfinishing.
Läpp- und CMP-Prozesse
Wird in der Herstellung von hochpräzisem optischem und elektronischem Glas verwendet.

Um Verunreinigungen zu vermeiden, sollten für optische und elektronische Gläser hochreine SiC-Sorten (≥99%) verwendet werden .
Um ein Verklumpen zu verhindern, sollte der Suspension ein Dispergiermittel zugesetzt werden.
Die Partikelgröße muss der erforderlichen Oberflächenrauheit (Ra) entsprechen.
Zwischen den Polierschritten gründlich spülen, um eine Kreuzkontamination durch gröbere Schleifmittel zu vermeiden.