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Grünes Siliziumkarbidpulver zum Polieren optischer Fasern

Grünes Siliziumkarbidpulver (SiC) ist ein hochreines, synthetisches Schleifmittel, das häufig in Präzisionspolieranwendungen, einschließlich  der Glasfaserpolitur , eingesetzt wird . Seine außergewöhnliche Härte (9,5 auf der Mohs-Skala), die scharfe Partikelmorphologie und die chemische Stabilität ermöglichen die Herstellung ultraglatter Oberflächen mit minimalen Untergrundschäden. Wichtige Eigenschaften für das Polieren optischer Fasern: Hohe Reinheit (≥99 %)  – Minimiert das

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Der Vorteil von grünem Siliziumkarbid für die Waferpolitur

Grünes Siliziumkarbid eignet sich ideal für die Waferpolitur, wenn eine Kombination aus Härte, Reinheit und kontrolliertem Materialabtrag erforderlich ist. Es schließt die Lücke zwischen kostengünstigem Aluminiumoxid und extrem teuren Diamantschleifmitteln und ist daher die bevorzugte Wahl in der Halbleiter- und Optikindustrie.

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Green silicon carbide for Semiconductor substrate polishing

          Green silicon carbide (SiC) is a high-purity abrasive material widely used in semiconductor substrate polishing due to its exceptional hardness (9.2–9.5 Mohs), thermal stability, and chemical inertness. Here’s a detailed breakdown of its role in semiconductor substrate polishing: 1. Key Properties of Green SiC for Polishing High Hardness: Effective for

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Silicon carbide as refractory material

Silicon carbide (SiC) is a high-performance refractory material due to its exceptional thermal, mechanical, and chemical properties. Here’s a detailed breakdown of its applications, advantages, and limitations in refractory contexts: 1. Key Properties Making SiC Ideal for Refractories Property SiC Value Refractory Benefit Melting Point ~2,700°C (4,892°F) Withstands ultra-high temperatures (e.g., steelmaking, kilns). Thermal Conductivity 120-270 W/m·K

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